國(guó)產(chǎn)芯片星辰大海又邁出一步，國(guó)產(chǎn)光刻膠獲重大突破！

眾所周知的是，受制于美國(guó)在芯片領(lǐng)域的封鎖，我國(guó)近年來(lái)的芯片制造技術(shù)發(fā)展一直備受矚目，尤其是光刻機(jī)的制造技術(shù)更是成為了我國(guó)芯片制造領(lǐng)域發(fā)展的重中之重。

但實(shí)際上，除了光刻機(jī)制造等關(guān)鍵因素外，芯片制造領(lǐng)域還需要很多必不可少的特種輔助材料。

也是因此，如果想真正實(shí)現(xiàn)美國(guó)在芯片領(lǐng)域的技術(shù)封鎖，那么只有全面實(shí)現(xiàn)芯片全產(chǎn)業(yè)鏈的國(guó)產(chǎn)化才是唯一解法。

所以，除了突破芯片制造和光刻機(jī)制造這些關(guān)鍵制造因素外，目前而言光刻特種輔助材料的國(guó)產(chǎn)化突破也值得關(guān)注。

這不，就在 5 月份，日本就對(duì)中國(guó)斷供了光刻過(guò)程中的關(guān)鍵耗材——光刻膠，直接導(dǎo)致國(guó)內(nèi)多家晶圓廠將會(huì)面臨 KrF 光刻膠大缺貨的處境。

據(jù)悉，光刻膠的質(zhì)量和性能對(duì)光刻工藝有著重要影響，但是其技術(shù)壁壘很高，因此長(zhǎng)期被日本等國(guó)家所主導(dǎo)，日本在光刻膠領(lǐng)域但市場(chǎng)份額就超過(guò)了 85%！

也是因此，光刻膠一直以來(lái)都是半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化的一道大坎。

除此之外，值得一提的是，這已經(jīng)不是日本第一次對(duì)外封鎖自己的光刻膠技術(shù)了。2019 年時(shí)日本也曾向韓國(guó)斷供過(guò)光刻膠，最終導(dǎo)致韓國(guó)在光刻膠領(lǐng)域不得不向日本低頭！

但好消息是，日本在光刻膠領(lǐng)域?qū)χ袊?guó)封鎖還不到兩個(gè)月的時(shí)間后，中國(guó)國(guó)產(chǎn)的光刻膠領(lǐng)域就傳來(lái)了好消息！

近日，有媒體報(bào)道稱(chēng)，南大光電的 ArF 光刻膠目前已經(jīng)拿到了小批量訂單！

這也意味著國(guó)產(chǎn)光刻膠目前已取得重大突破，光刻膠終于突破日本的封鎖，實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化！

壹

什么是光刻膠，為什么它在半導(dǎo)體領(lǐng)域如此之重要？

光刻膠（Photoresist）又稱(chēng)光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。

光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對(duì)所使用光刻膠有嚴(yán)格的要求！

在 20 世紀(jì) 80 年代時(shí)，美國(guó)的 IBM 曾一度壟斷了光刻膠市場(chǎng)。當(dāng)時(shí)，由美國(guó) IBM 率先突破了 KrF 光刻，并在此后的十余年時(shí)間里形成了壟斷。

但當(dāng)時(shí)，由于半導(dǎo)體的工業(yè)發(fā)展尚未達(dá)到需要 KrF 光刻大規(guī)模放量的時(shí)代，也就是說(shuō) KrF 光刻實(shí)際上是一個(gè) " 早產(chǎn)兒 "。因此，當(dāng)時(shí)的 KrF 光刻市場(chǎng)增速十分的緩慢！

直到，1995 年日本東京應(yīng)化（TOK）成功突破了高分辨率 KrF 正性光刻膠 TDUR-P007/009 并實(shí)現(xiàn)了商業(yè)化銷(xiāo)售，才真正的打破了 IBM 對(duì)于 KrF 光刻膠的壟斷。

也是因此，從 1995 年開(kāi)始光刻機(jī)市場(chǎng)也逐步從美國(guó)主導(dǎo)演變?yōu)榧涯堋⒛峥禐辇堫^的時(shí)代，光刻膠市場(chǎng)也正式進(jìn)入了日本廠商的霸主時(shí)代！

至今為止，全球光刻膠的市場(chǎng)份額，單日本就掌握了超過(guò) 85%，尤其在高分辨率的 KrF、ArF 和 EUV 光刻膠領(lǐng)域。

但很多人可能不知道的是，我國(guó)在光刻膠領(lǐng)域的研究和布局實(shí)際上也早在 20 世紀(jì) 70 年代就開(kāi)了，最早的時(shí)候幾乎是和日本站在同一起跑線上。但最終受制于技術(shù)、資金和人才等因素，導(dǎo)致我國(guó)和日本的光刻膠領(lǐng)域水平差距越來(lái)越大。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，目前我國(guó)光刻膠行業(yè)與海外最先進(jìn)水平之間的差距已經(jīng)達(dá)到 40 年之久！

也是因此，此次南大光電的 ArF 光刻膠突破無(wú)疑是我國(guó)在整個(gè)光刻膠行業(yè)，乃至整個(gè)光刻機(jī)和半導(dǎo)體行業(yè)國(guó)產(chǎn)化追趕所邁出的重要一步。

貳

不驕不躁，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)快速追趕、前行！

在 5 月份日本對(duì)中國(guó)斷供光刻膠時(shí)，日本方面給出的理由是因?yàn)?"KrF 光刻膠的產(chǎn)能有限 "，但當(dāng)時(shí)就有分析人士認(rèn)為日方的斷供理由雖然聽(tīng)上去很完美，但實(shí)際上也是漏洞百出，所謂的產(chǎn)能有限，只不過(guò)是日方編造的借口而已。

這一點(diǎn)從今年臺(tái)積電斥資 1.9 億美元在日本建廠就可以看出，因?yàn)榕_(tái)積電此次在日本的建廠并不是建設(shè)晶圓代工廠，而是建設(shè)化學(xué)原料廠在芯片材料上展開(kāi)布局。

眾所周知的是，一直以來(lái)臺(tái)積電對(duì)于廠址的選址很看重，因此如果日本 KrF 光刻膠等半導(dǎo)體的原料不足，臺(tái)積電也不會(huì)把自己的化學(xué)原料廠建在日本。

其次，美國(guó)近年來(lái)一直在封鎖我國(guó)的半導(dǎo)體領(lǐng)域，而日本則是對(duì)美國(guó)此舉響應(yīng)最積極的國(guó)家之一。因此，日本在此時(shí)選擇斷供中國(guó)光刻膠實(shí)際上并不排除是在向美國(guó)示好。

總而言之，在整個(gè)半導(dǎo)體領(lǐng)域，要想全面實(shí)現(xiàn)美國(guó)的全面封鎖，除了光刻機(jī)和芯片制造等關(guān)鍵領(lǐng)域需要實(shí)現(xiàn)全面國(guó)產(chǎn)化替代以外，包括這個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中的上下游環(huán)節(jié)也需要實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化替代，才能真正不被別人卡脖子。

目前，芯片原材料領(lǐng)域雖然國(guó)內(nèi)已經(jīng)有部分原材料實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化的自主生產(chǎn)，但還有包括硅片、光掩膜、電子特氣、拋光材料、濺射靶材在內(nèi)的眾多原材料完全依賴(lài)進(jìn)口。

這也就意味著，中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)未來(lái)的發(fā)展依舊任重而道遠(yuǎn)！

但我們也同時(shí)堅(jiān)信，以國(guó)人的智慧和拼搏精神，只要我們奮力追趕，未來(lái)這次細(xì)分行業(yè)都將最終實(shí)現(xiàn)國(guó)有化替代的驚人突破！

有了目標(biāo)我們就有了前進(jìn)的方向！

不驕不躁，奮力前行，期待有朝一日國(guó)產(chǎn)化半導(dǎo)體再次讓全世界重新對(duì)中國(guó)的科技力量刮目相看！